Polishing cloth研磨材事業

お客様ニーズに応えるべく、多種多様な高品質の研磨クロス、シリコンウェハー、
フォトマスク、液晶硝子、各種対応高精度研磨材を製造・販売しています。

高分子樹脂合成技術と湿式微多孔膜形成技術の融合は、最先端の電子製品に搭載されている半導体材料の製造分野においても注目を集めています。半導体の基盤となるシリコンウェハーやフォトマスクの製造には、高精度の平滑度を要求する超精密ポリッシング工程があります。この超精密ポリッシングを実現したのが、湿式微多孔膜形成研究から生まれた研磨クロスです。
当社は、お客様ニーズに応えるべく多種多様な高品質の研磨クロス、研磨パッドを生産・販売しています。ますます高度化が進む超精密研磨用途に於いて、当社は高分子樹脂合成技術と湿式微多孔膜形成技術のたゆまぬ研究開発により、 次世代用研磨材開発に挑戦し続けています。

技術紹介

湿式微多孔膜形成
ポリウレタン微多孔構造を有する膜を湿式凝固析出させる技術
微多孔構造制御
種々パラメーターを制御し微多孔構造のセルサイズや形態を制御する技術
研磨技術
微多孔膜表面を精密研削、内部セルを露出させてスエード外観形成を行う技術
RIM (Reaction Injection Molding)成型
高分子樹脂合成技術で、硬度・弾性・発泡密度を制御し、反応させながら発泡体を形成する技術

そのほかの事業

  • 化成品事業
  • 加工品事業
  • 商品事業
  • 一般合皮事業